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CVD真空系統(tǒng) GYS-1700C+GYS-4F+真空泵+真空連接配件 以硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和50段程序控溫，B型熱電偶，雙層爐殼間配有風(fēng)冷循環(huán)系統(tǒng)，最高溫度能達(dá)到1700°C，可在1600℃下連續(xù)工作，控溫精度±1C；該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做新材料樣品的燒結(jié)或是退火（在真空或是惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下)的合適產(chǎn)品。

CVD系統(tǒng)管式爐是一種重要的材料制備設(shè)備，廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)之中。它主要用于在固態(tài)基材上沉積一層薄膜，其組成部分包括高溫真空管式爐、氣路和真空系統(tǒng)。